[ ?來源:鴻泰盛（北京）健康科技 ?| ?作者:足底壓力分析儀 ?| ?時間：2018-12-14 13:08:08 ?| ?收藏本文 ?] 【大 中 小】
足底壓力分析儀在步態(tài)分析中的發(fā)展和應用
足底壓力分析的意義：
對足底壓力大小的研究，可以反映人在運動或靜止狀態(tài)下的足底壓特征，研究人在不同狀態(tài)下的特征即運動過程中足的動力學特性。它在臨床生物力學研究診斷病理足與足部康復評定領域已逐漸成為重要手段。
他的測量手法和發(fā)展歷經(jīng)對足底的壓力及分布做出定性判斷足印技術、依光學反射原理的足底壓力掃描技術和依傳感器的力板與測力臺技術、壓力墊技術等。
足底壓力分析技術的應用
隨著新型傳感器技術的壓力測量儀器的發(fā)展與計算機技術的廣泛應用，足底壓力測量技術在臨床醫(yī)療診斷及康復醫(yī)學中得到越來越廣泛的應用，其測量技術也不斷的發(fā)展成熟，指標也逐步豐富，測量的精度也隨之提高。它能為臨床足疾患者(糖如尿病足、足部損傷等)和特殊人群(如孕婦、老年人、小兒麻痹癥患者等)的足底壓力測量和步態(tài)特征分析提供技術支持，為足疾的功能康復、療效評定和手術后效果鑒定提供客觀評價。因此這方面的研究由于測量技術的進步在近些年已逐步成為一個研究熱點。
對步行時的足底壓力進行研究，主要觀察力一時間曲線的特征，即谷峰值、谷值的出現(xiàn)時間和幅度的變化。在整個步態(tài)周期中，垂直方向受力曲線具有典型的對稱雙峰性質(zhì)。行走時足一地接觸力在垂直方向上的分力大，在每個步態(tài)周期轉(zhuǎn)折點出現(xiàn)極值，足跟著地時有一極大值，隨足部逐漸放平，受力面積逐漸增大，受力減小，足部完全放平時受力達小，至足跟離地，足趾登地時出現(xiàn)另一極大值。正常人足一地接觸力在水平、前后方向受力較小，且基本對稱。對在不同行走速度下的足底壓力進行的測試結(jié)果表明隨行走速度的增加，地面對足底的垂直作用力增加。這與牛頓力學規(guī)律相吻，這些測量結(jié)果還表明，隨行走速度的增加壓力時間積分值逐漸減小。
足底壓力分析技術的研究結(jié)果
有研究表明步行時足底壓力較站立時明顯增加且壓力分布改變，超過5O％的正常人動態(tài)峰值足壓位于第2跖骨頭，而足跟區(qū)域出現(xiàn)動態(tài)峰值足壓僅占16％ ，表明步行時足底大壓力前移，以前足跖骨頭區(qū)域受壓大，并且第1趾也成為主要受力部位。正常人行走過程中，前足承擔體質(zhì)量的49％ ，中足與后足共同負擔體質(zhì)量的51%。
足底壓力分析技術的發(fā)展
在康復機構(gòu)/科研機構(gòu)/健身機構(gòu)/高等院校/醫(yī)院/兒童館/線下門店/運動訓練機構(gòu)/鞋類設計等領域發(fā)展越來越迅速。
